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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 電子/電池,航空航天,電氣,綜合 |
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Nonsequitur 20kV 離子槍 離子源 真空 1420
Nonsequitur 20kV 離子槍 離子源 真空 1420
20kV 離子槍
可調光斑尺寸 ≥ 5 微米，用于空間定義濺射或植入
發(fā)射調節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流
連續(xù)可變的束流能量 5kV 至 20kV
用于束掃描和散光校正的雙倍極
預目標掃描可縮小光斑尺寸
沒有燈絲與樣品的直接視線，以避免樣品污染
客戶可更換燈絲和光束微調孔
雙燈絲可在燈絲壽命終止時提供運行備份
所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料均用于制造
差分泵送，最大限度地減少主室氣體負荷
可在惰性氣體和氮氣范圍內運行
模式 光斑尺寸 (µM FWHM) 光束電流 (µA) 電流密度 (A/cm2)
小光斑 8 0.5 1
中型光斑 15 5 2.8
大光斑 40 20 1.5
Duoplasmatron Duoplasmatron Equavalent Ion Guns Model 1402 Model 1403 TOF/SIMS Model 1403Cs - Cesium/Alkali Ions Model 1404 Model 1407 Model 1420 Model 1450 Nonsequitur SIMS 二次離子質譜 雙等離子發(fā)射器 真空測試 真空系統(tǒng) 真空腔 真空表面化學實驗 離子槍 離子源 聚焦離子源 表面分析儀器
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